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Haohai Metal Meterials Co., Ltd.

Haohai Titanium Co., Ltd.


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SiOx Sputtering Target, alta qualità, ruotabile, dritto, Dogbone, planare, rivestimento in PVD, sottile pellicola deposizione, SiOx Magnetron Sputtering obiettivi produttore e fornitore

Haohai titanio è specializzata nella produzione di ossido di silicio di elevata purezza sputtering obiettivi con la massima densità possibile e dimensioni più piccole possibili a grana media per utilizzano in semiconduttori, deposizione chimica da vapore (CVD) e physical vapour deposition (PVD) display e applicazioni ottiche.

I dettagli del prodotto

SILICIO OXIDE(SiO2) SPUTTERING TARGET


Haohai titanio è specializzata nella produzione di ossido di puritySilicon alta targetswith il più alto possibile densityand più piccolo possibile granello medio di formati per uso in semiconduttore, deposizione chimica da vapore (CVD) e physical vapour deposition (PVD) display e applicazioni ottiche di sputtering.

HaohaiOssido di silicio (SiO2)Includono obiettivi SputteringOssido di silicio (SiO2)Rotary sputtering obiettivi eOssido di silicio (SiO2)obiettivi sputtering planari.




Silicio (SiO2) l'ossido ruotabile (rotativa, cilindrico) Sputtering Target

Gamma di produzione

OD (mm)

ID (mm)

Lunghezza (mm)

Custom Made

80 - 160

60 - 125

100 - 4000

Specifica:

Composizione

SiO2

Purezza

3N (99.9%), 3N5 (99,95%), 4N (99,99%), 4N5 (99,995%)

Densità

2,3 g/cm3

Granulometrie

andlt; da 150 micron o su richiesta

Processi di fabbricazione

Plasma di spruzzatura, lavorazione, incollaggio

Forma

Dritto, osso di cane

Tipi di estremità

SCI, SRF, DSF, RFF, WFF, VA, GPI finisce fissaggio, scanalatura a spirale, Custom Made per SS tubo di supporto

Superficie

Ra 1.6 micron

L'altra specifica

Vapor sgrassato e smagnetizzato dopo la lavorazione finale.

ID essere LEVIGATO e OD TERRA dopo tubo grezzo viene prodotto per garantire ID di concentricità OD soddisfa requisiti di disegno.

Alto tasso di perdita stretto, vuoto in qualsiasi luogo non deve superare 1 x 10-8STD CC/SEC.

Sigillato in plastica, avvolto in schiuma per proteggere e punte innevate per proteggere il sigillo superfici.


Silicio (SiO2) l'ossido planare (Rectangle, circolare) Sputtering Target


Gamma di produzione

Corpo a rettangolo

Lunghezza (mm)

Larghezza (mm)

Spessore (mm)

Custom Made

10 - 2000

10 - 300

5.0 - 40

Circolare

Diametro (mm)


Spessore (mm)

5.0 - 200


5.0 - 20


Specifica:

Composizione

SiO2

Purezza

3N (99.9%), 3N5 (99,95%),4N (99,99%), 4N5 (99,995%)

Densità

2,3 g/cm3

Granulometrie

andlt; da 150 micron o su richiesta

Processi di fabbricazione

Lavorazione, incollaggio

Forma

Più segmenti Target, incollaggio sulla piastra Cu cori

Tipi

Piastra, disco, passo, verso il basso di bullonatura, Threading, Custom Made

Superficie

Ra 1.6 micron

Altre specifiche

Planarità, superficie liscia pulita, lucida, privo di crack, olio, dot, ecc.

Eccellente conductions, coefficiente di dilatazione lineare piccola e buona resistenza al calore.


Per Haohai ossido di silicio (SiO2) sputtering target

Tolleranza

Merceria ai disegni o su richiesta.

Applicazione

Rivestimento ottico

Solare andamp; Rivestimento fotovoltaico



Haohai metallo, dotata di fabbrica professionale, è uno dei principali produttori e fornitori di varie dimensioni di incollaggio prodotti. Siamo un siox sputtering target, alta qualità, ruotabile, dritto, dogbone, planare, pvd rivestimento, deposizione di film sottili, siox magnetron sputtering obiettivi produttore e fornitore. Benvenuti a comprare e vendita all'ingrosso i nostri prodotti con prezzo basso, tariffe di utilizzo elevato, elevata purezza ed alta qualità con i nostri produttori.

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